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本文主要介紹了主動(dòng)隔振平臺(tái)在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用
光柵元件內(nèi)部結(jié)構(gòu)的微小缺陷,即使納米級(jí)別的光柵周期差異即可導(dǎo)致意想不到光線傳輸路徑,而K矢量的細(xì)微畸變即可引起光線傳播串?dāng)_,即可造成成像模糊以及色偏。而傳統(tǒng)的接觸式測(cè)量方式容易劃傷膜層,且測(cè)量精度和效率也無(wú)法滿足日益增長(zhǎng)的需求。卓立VHG-M光柵測(cè)試系統(tǒng)基于Littrow自準(zhǔn)式入射結(jié)構(gòu),系統(tǒng)通過(guò)精密調(diào)整入射角與衍射光強(qiáng)反饋,實(shí)現(xiàn)0.02nm級(jí)光柵周期測(cè)試靈敏度。相較傳統(tǒng)透射電子顯微鏡、原子力顯微鏡分析法,分辨率提升100倍,同時(shí)大幅提高測(cè)試效率及精準(zhǔn)度。
本文探討了振動(dòng)控制技術(shù)與精密平臺(tái)在芯片制造中的關(guān)鍵作用,對(duì)比分析了主動(dòng)與被動(dòng)隔振系統(tǒng)的技術(shù)特點(diǎn)及應(yīng)用場(chǎng)景。研究指出,主動(dòng)隔振系統(tǒng)更適合先進(jìn)制程的低頻振動(dòng)控制,而被動(dòng)隔振在高頻段更具成本優(yōu)勢(shì)。結(jié)合高精度平臺(tái)和運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),可顯著提升設(shè)備穩(wěn)定性,為半導(dǎo)體制造工藝提供可靠的精度保障。
卓立光機(jī)、激光和光譜產(chǎn)品在半導(dǎo)體行業(yè)的部分應(yīng)用
卓立的三線擺TPR氣浮平臺(tái)加上韓國(guó)Park的桌面式主動(dòng)隔振臺(tái)I4,為AFM應(yīng)用提供主機(jī)的主被動(dòng)隔振方案